Hellma氟化钙光学晶体材料 CaF2 圆形片产品简介：具备低折射率特性，折射率 nd=1.43384，适配高功率激光应用工况。

Hellma氟化钙光学晶体材料 CaF2 圆形片

1922 年至今，Hellma 品牌始终专注于光学领域玻璃、石英及晶体材料的精密加工，维持稳定的工艺标准与加工精度。

Hellma 深耕高纯度合成晶体研发与制备，适配光学、半导体、辐射探测、安防等领域的严苛使用标准。依托熔体控晶相关成熟技术积淀，保障各类晶体制品的品质一致性与工艺稳定性。

Hellma 氟化钙可应用于微光刻、常规光学、激光技术、辐射探测等场景；锗、硅材料主要适配红外光学领域，可用于热成像相机、夜视设备、光谱分析系统的透镜及窗口类元器件制作。

锗材料在 2～14 微米红外光谱区间具备良好透过性能，适配红外相关配套应用。硅材料具备良好力学性能与较高折射率，多用于红外光学系统透镜、反射镜构件加工。两类材料均有多种外形与尺寸规格，可匹配不同工况的定制使用需求。

氟化钙晶体拥有紫外、可见光、红外多光谱宽透射区间，同时具备良好环境耐受性能，可适配科研及工业领域各类严苛工况使用。

氟化钙具备低折射率特性，折射率 nd=1.43384，适配高功率激光应用工况。

氟化钙具备低光谱色散特性，阿贝数 vd=95.23，可有效控制光学系统色差。

氟化钙对准分子激光具备良好耐受性能，适配 193 nm、248 nm 工作波段，可提升激光元器件使用周期。

氟化钙拥有深紫外至红外的宽波段高透过特性，透光区间覆盖 130 nm 至 8 µm，在紫外、可见光、红外波段均保持良好透光表现。

氟化钙半成品最大加工尺寸可达 440 mm，可满足应用场景的大尺寸用料需求。

CaF2 圆形片

材质：CaF2 193nm 级（LD-A），单晶，晶向 <111>

圆形片规格：直径 100.0 mm × 50.0 mm（双平面）

公差：直径 (± 0.5 mm)；厚度 (± 0.5 mm)

表面光洁度：研磨 (Rq 2 µm)

防护倒角：1.5 mm

0 / ≤ 1 nm/cm（应力双折射）

Hellma氟化钙光学晶体材料 CaF2 圆形片